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通知公告

第四屆國際先進光刻技術研討會將于11月5日-6日在成都舉辦

稿件來源: 發布時間:2020-04-29

   國家發展芯片(集成電路)產業的必要性已經上升到國家戰略層面,中央對于集成電路的發展也給予了極大的政策支持。基于這樣的形勢,國際先進光刻技術研討會(International Workshop on Advanced Patterning SolutionsIWAPS)應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業界、學術界的資深技術專家和優秀研究人員等提供了一個技術交流平臺,參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優化等主題分享各自的研究成果,研討即將面臨的技術挑戰。 

  研討會的發言者均為特邀自集成電路制造相關領域的國內外資深專家,代表了其所在領域的國際先進水平。報告內容涉及廣泛,涵蓋了當前的技術現狀、未來的發展趨勢以及面臨的挑戰等。該研討會為想要了解更多國內外半導體業界動態的研究者和工程師提供更多機會。參會者分別來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機構、高校等。第四屆國際先進光刻技術研討會將于115-6日在成都舉辦,歡迎報名參會。

 

 

  在此之前,IWAPS已經成功舉辦了三屆,首屆國際先進光刻技術研討會于20171012-13日在北京舉辦,由集成電路產業技術創新聯盟主辦,中國科學院微電子研究所承辦。報告人均來自國內外行業頂級專家,吸引了超過200名參會者參會。 

 

 

  第二屆國際先進光刻技術研討會于20181018-19日在廈門舉辦,由集成電路產業技術創新聯盟主辦,中國科學院微電子研究所與廈門半導體集團共同承辦,得到了廈門市海滄區政府的大力支持。此次會議的參會者超過300人,外籍參會者超60人。此次會議開辟了分會場,通稿論文征稿,吸引了更多高校和研究所的科研人員前來參會分享成果。

 

 

  第三屆國際先進光刻技術研討會于20191017-18日在南京舉辦,由集成電路產業技術創新聯盟和中國光學學會主辦,中國科學院微電子研究所與南京市浦口高新區、南京市浦口區科學技術局承辦,南京誠芯集成電路技術研究院協辦,IEEE南京分會提供技術支持,參會者人數穩步提升。來自高校與研究所的行業內人士踴躍投稿參會,學生與研究人員分享了各自最新的研究成果,通過專家委員會的評議,選出了最佳論文獎。并且依托國際期刊《Jouranl of Microelectronic Manufacturing 》(JoMM),能夠讓參會的中國科研工作者、學生更便捷地發表自己的最新科研成果。 

 

    

  經過3年的不懈努力,IWAPS已經吸引了若干固定的贊助商和國內外知名專家學者,每年的參會單位和人數都在穩步提升,構筑的產、學、研生態圈,能夠為國內外業內人員提供了一個更直接的學術交流平臺,為本地企業提供更多合作溝通的機會,也使國際知名廠商能夠更加深入地了解本地商業環境與政策。今年在成都舉辦的IWAPS 2020,    將會有更大的規模,更豐富的內容,更先進的技術交流,敬請期待! 

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