《Journal of Microelectronic Manufacturing》（JoMM，ISSN：2578-3769）旨在發表集成電路制造領域中從基礎研究階段到工業大規模量產階段的研究成果，目前已被Crossref、DOAJ、CNKI、CSTJ、CAS等數據庫收錄。JoMM的發表內容包括但不限于Design、Process、Metrology & Yield Control、Packaging、Materials、Equipment 等方面。近期，JoMM出版了第三卷第二期。
本期專題文章如下：
High-Pressure Oxidation on Ge: Improvement of Ge/GeO2 Interface and GeO2 Bulk Properties
ChoongHyun Lee, 2020 JoMM Volume 3, Issue 2: 20030202
FinFET Performance Enhancement by Source/Drain Cavity Structure Optimization
Man Gu, Wenjun Li, Haiting Wang, Owen Hu. 2020 JoMM Volume 3, Issue 2: 20030201
作為開放閱覽電子學術期刊，JoMM致力于實現快速發表，稿件錄用后即時上線，可閱覽、下載、引用。目前JoMM正在進行2020年征稿，并免版面費，同時也在征集Special Issue的專題（CAD Technologies & Materials），以及歡迎新編委、同行評審專家加入JoMM，詳情請查看官網http://www.jommpublish.com/.
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